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芯片界的重磅炸彈，1nm光刻機有突破了
芯片的制作工藝級別一直都是大家非常關注的問題，從2004年的64納米工藝一直升級到現(xiàn)在的5納米工藝，足足用了16年時間之久，如今有消息傳出荷蘭的ASML公司已經(jīng)完成1nm光刻機設計，說明1nm光刻機有突破了，并預計在2022年開始商用，這消息一出宛如一顆重磅震撼彈般撼動著整個世界。
根據(jù)日媒11月30日消息，IMEC公司在ITF Japan 2020大會上公布了3nm、2nm、1.5nm以及1nm以下的邏輯器件小型化路線圖。根據(jù)IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Van den hove的透露，IMEC公司與ASML公司緊密合作，將推進下一代高分辨率EUV光刻技術。并且目前ASML公司已經(jīng)完成了作為NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統(tǒng)的基本設計，將應用于1nm光刻機，預計2022年即可商用。
在半導體領域有一個經(jīng)典理論，即“大約每兩年，晶體管密度就會增加1倍”，業(yè)內(nèi)人通常把這個定律稱之為摩爾定律。1納米工藝，曾是想都不敢想的，如今已有計劃實現(xiàn)，這怎能不引起全球的廣泛關注。
荷蘭ASML公司突破1nm光刻機固然是令人振奮的，不過這也讓大家關心國內(nèi)的光刻機技術了，現(xiàn)在已經(jīng)商用的5納米的光刻機，而國內(nèi)目前只能達到14納米工藝，5納米工藝預計我們國內(nèi)預計還需要四、五年才能實現(xiàn)，也就是說，現(xiàn)今國產(chǎn)光刻機的工藝和世界先進水平的有兩代差距。
如今，荷蘭ASML公司1nm光刻機已經(jīng)完成1nm光刻機設計，留給國產(chǎn)光刻機的時間真的不多了，希望國內(nèi)的科學家再加把勁，來個彎道超車，讓全世界都刮目相看。
